<s id="ukqx0"></s>
    1. <s id="ukqx0"><option id="ukqx0"><bdo id="ukqx0"></bdo></option></s>
      <p id="ukqx0"><option id="ukqx0"><bdo id="ukqx0"></bdo></option></p>

    2. 您好,歡迎訪問萊丹集團上海官方網站!
      當前位置:首頁 > 微系統 > 微光學透鏡 > MEMS 加工
      MEMS 加工

      點擊次數:171次????更新時間:2017-03-16 10:48:26

        Axetris為OEM客戶提供定制產品的代加工服務,可以提供從初設理念到批量生產產品的全程服務。我們的生產車間配備了尺寸從150mm到200mm的晶圓盤加工設備,包括適用于標準的MEMS加工的工藝制程,如濕式化學制程,光刻制程及鍍膜工藝。我們用一套計量系統來確保高標準,高品質的控制要求,并且用一種現代統計學的方法為以TS 16949標準為指導原則的生產流程打下堅實的基礎。作為獲得ISO 9001:2015質量認證體系的公司,我們堅信始終能保證優質的產品和品質。

        Axetris為OEM客戶提供定制產品的代加工服務,可以提供從初設理念到批量生產產品的全程服務。我們的生產車間配備了尺寸從150mm到200mm的晶圓盤加工設備,包括適用于標準的MEMS加工的工藝制程,如濕式化學制程,光刻制程及鍍膜工藝。我們用一套計量系統來確保高標準,高品質的控制要求,并且用一種現代統計學的方法為以TS 16949標準為指導原則的生產流程打下堅實的基礎。作為獲得ISO 9001:2015質量認證體系的公司,我們堅信始終能保證優質的產品和品質。

        Axetris標準的制作能力

        光刻制程

        ·1μm的光刻能力,最大到8"晶圓盤

        ·單面或雙面校準

        ·厚層抗蝕劑制程(SU8,其它)

        濕法化學制程

        ·各向異性的硅刻蝕法

        ·玻璃刻蝕法

        ·金屬刻蝕法

        ·濕法清洗制程

        等離子體處理/表面修整

        ·金屬鍍膜

        ·噴濺涂覆,最大到8"晶圓盤

        ·共同噴濺涂覆

        介質涂層的沉積

        ·用PECVD法的二氧化硅或氮化物涂層

        ·用反應噴濺涂覆法的二氧化硅或氮化物涂層

        反應離子刻蝕制程

        ·熔融石英

        ·硅

        ·氮化硅/氧化硅

        ·光刻膠

        測量和特性參數界定

        ·干涉測量和觸覺感知表面測量

        ·膜厚度測量

        ·阻值系數&電阻值

        ·光學顯微鏡

        ·自動光學檢測

        ·掃描電鏡(SEM)

        Axetris專業的制作能力

        微光學

        ·用于折射和衍射的微光學部件

        薄膜

        ·用于光學,傳感器和生命科學等應用的絕緣薄膜

        CMOS晶圓盤后處理程序

        ·CMOS后處理程序,如背面開口,金屬鍍膜,薄膜沉積

        剝脫程序

        ·連同剝脫程序的金屬鍍膜,如電極涂層,焊接襯墊涂層。可選用材料包括金,鉑,金錫合金,鉻,鎳,鉭,鈦鎢合金,銅,鋁,其它材料可協商

        切割

        ·硅,玻璃&熔融石英晶圓盤的切割

        ·附帶易碎基底的晶圓條切割,比如薄膜和微光學用的基底


      產品編號 : 
      參數單位
      典型值



      MEMS 加工

      MEMS 加工

      上述產品不合適?您還可以瀏覽:
      色一撸视频在线观看,在线高清视频不卡无码,免费性爱视频,g片在线观看免费

        <s id="ukqx0"></s>
        1. <s id="ukqx0"><option id="ukqx0"><bdo id="ukqx0"></bdo></option></s>
          <p id="ukqx0"><option id="ukqx0"><bdo id="ukqx0"></bdo></option></p>